BPSG
BPSG, Borphosphorsilicatglas wird vor allem zur Planarisierung der Waferoberfläche eingesetzt.
Das BPSG entsteht durch die Dotierung von SiO
2 mit Bor und Phosphor und hat nunmehr eine um 600-700°C niedrigere Schmelztemperatur als reines SiO
2. Dieses niedrig schmelzende Glas wird unter anderem im Reflowprozess eingesetzt.