Laserinterferometer
Laserinterferometer verwendet man bei der Waferherstellung zur Bestimmung der Dicke transparenter Schichten und zur Justierung.
Schichtdickenbestimmung:
Dazu wird die zu vermessende Schicht mit einem Laser bestrahlt. Der reflektierte Strahl setzt sich dann aus dem von der Oberfläche der Schicht und dem von der Grenzfläche Schicht-Substrat reflektierten Strahl zusammen. Aus dem Interferenzmuster der beiden Strahlen lässt sich nun die Schichtdicke bestimmen.
Justierung:
Dazu wird die Waferoberfläche durch die Maske mit einem Laser bestrahlt. Die dortigen Strukturen erzeugen ein Interferenzmuster, das detektiert und mit einem Referenzsignal verglichen wird. Nun wird der Wafer so lange auf einem beweglichen Tisch in x- und y-Richtung verschoben, bis das gemessene Signal mit dem Referenzwert übereinstimmt. Desweiteren wird beim Waferstepper die genaue Position des Tisches mit Hilfe eines Laserinterferometers bestimmt, indem ein am Tisch reflektierter Lichtstrahl mit einem an einem stationären Spiegel reflektierten Lichtstrahl zur Interferenz gebracht wird.
Schichtdickenbestimmung:
Dazu wird die zu vermessende Schicht mit einem Laser bestrahlt. Der reflektierte Strahl setzt sich dann aus dem von der Oberfläche der Schicht und dem von der Grenzfläche Schicht-Substrat reflektierten Strahl zusammen. Aus dem Interferenzmuster der beiden Strahlen lässt sich nun die Schichtdicke bestimmen.
Justierung:
Dazu wird die Waferoberfläche durch die Maske mit einem Laser bestrahlt. Die dortigen Strukturen erzeugen ein Interferenzmuster, das detektiert und mit einem Referenzsignal verglichen wird. Nun wird der Wafer so lange auf einem beweglichen Tisch in x- und y-Richtung verschoben, bis das gemessene Signal mit dem Referenzwert übereinstimmt. Desweiteren wird beim Waferstepper die genaue Position des Tisches mit Hilfe eines Laserinterferometers bestimmt, indem ein am Tisch reflektierter Lichtstrahl mit einem an einem stationären Spiegel reflektierten Lichtstrahl zur Interferenz gebracht wird.