Quarzglas
Quarzglas findet in der Halbleiterfertigung besonders in der Ofentechnik Anwendung, da es einen sehr hohen Schmelzpunkt besitzt (~1700 °C; Schmelzpunkt von Silicium 1414 °C). Die langen Quarzrohre dienen dort als Prozesskammer in der sich Prozessgase und die Wafer (auf einem Waferträger aus Quarzglas) befinden.
Quarzglas besteht im Gegensatz zu normalen Gläsern aus reinem Siliciumdioxid (in amorpher Form) und besitzt somit eine sehr hohe Festigkeit und eine geringe thermische Ausdehnung.