Halbleitertechnologie von A bis Z

Alles über Halbleiter und die Waferfertigung

Target

Das Target besteht aus dem Material, dass beim Sputtern auf dem Wafer als Schicht erzeugt werden soll.

Meist ist das Target mit der Kathode gekoppelt (negative Elektrode), so dass positive Ionen (meist Argonionen) darauf hin beschleunigt werden, um dort das Material herauszuschlagen, welches sich dann auf dem Wafer absetzt.

Das Target besteht meist aus einem leitenden Material, damit die Ladung der Ionen abgeführt werden kann.