Halbleitertechnologie von A bis Z

Alles über Halbleiter und die Waferfertigung

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3
µm
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1.5
µm
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1
µm
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800
nm
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600
nm
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350
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250
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180
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130
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65
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45
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32
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22
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16
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11
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7
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5
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180 nm (0,18 µm)

Der 180-nm-Prozess bezieht sich auf die Fertigungstechnologie, die ab 1999 bei den führenden Halbleiterherstellern wie Intel, Texas Instruments, IBM und TSMC zum Einsatz kam.

Gemäß der historischen Entwicklung, nach der die Strukturen alle 2-3 Jahre um den Faktor 1,4 verkleinert werden (dies entspricht einer Halbierung der Chipfläche), folgt der 180-nm-Technologieknoten auf den 250-nm-Prozess. Die Bezeichnung wird von der International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS) festgelegt.

Einer der ersten Prozessoren, der mit dieser Technologie gefertigt wurde, war der Intel Pentium III (Coppermine). Erstmals lag hierbei die Strukturgröße unterhalb der Wellenlänge der eingesetzten Argon-Fluorid-Laser (193 nm).

Von AMD in der Massenfertigung eingeführte Technologie:
  • Kupfertechnologie zur Verdrahtung der Schaltung (2000)