Der Weg zu 5 nm: Performance und Kosten
Der Halbleiterindustrie mangelt es nie an Herausforderungen wenn sie von einem Technologieknoten zum nächsten drängt. Die Lithografie ist immer eine Herausforderung, so Dick James von Chipworks. Während es bis … »
Samsung setzt auf Fully-Depleted SOI von ST
Wie STMicroelectronics und Samsung bekannt gaben, haben die beiden Konzerne einen Vertrag über die Nutzung von STs 28-nm-Prozess für Fully-Depleted SOI (FD-SOI; auf 300-mm-Wafern) abgeschlossen. Die … »
Ingenieure demonstrieren Transistoren auf B …
Ein neuer Ansatz für schnelle und zuverlässige Halbleiterbauteile und Optoelektronik beruht auf dem Einsatz von Nanodrähten, die auf einem Siliciumsubstrat hergestellt werden. Ingenieure der University of … »

Herstellung, Anwendungsbeispiele und Messung von Oxidschichten.

Plasmaerzeugung, Übersicht chemischer und physikalischer Abscheideverfahren.

Übersicht über die Prozessabläufe in der Fototechnik und Maskentechnologie.

Nasschemische Ätzung, Scheibenreinigung und Reinraumtechnik.

Grundlagen und wichtige Größen beim Trockenätzen und Trockenätzverfahren.

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