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02.11.2008:

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2. Waferherstellung

Silicium
· Eigenschaften von Silicium

Herstellung des Rohsiliciums
· Herstellung von Rohsilicium
· Reinigung von Rohsilicium
· Zonenreinigung

Herstellung des Einkristalls
· Der Einkristall
· Kristallziehverfahren nach Czochralski
· Tiegelfreies Zonenziehen

Entstehung der Wafer
· Wafervereinzelung und Oberflächenveredelung
· Entwicklung der Wafergröße

Dotiertechniken
· Begriff
· Diffusion
· Diffusionsverfahren
· Ionenimplantation
· Dotierung mittels Legierung

4. Abscheidung

Plasma, der 4. Aggregatzustand
· Plasmazustand
· Plasmaerzeugung

CVD Verfahren
· Silicium-Gasphasenepitaxie
· CVD-Verfahren
· APCVD: Atmospheric Pressure CVD
· LPCVD: Low Pressure CVD
· PECVD: Plasma Enhanced CVD

PVD Verfahren
· MBE: Molekularstrahlepitaxie
· Aufdampfen
· Sputtern: Kathodenzerstäubung

6. Lithografie

Belichten und Belacken
· Übersicht
· Aufbringen eines Haftvermittlers
· Belacken
· Belichtung
· Eingesetzte Belichtungsverfahren

Belichtungsverfahren
· Übersicht
· Kontaktbelichtung
· Abstandsbelichtung
· Reduzierende Projektionsbelichtung
· Elektronenstrahllithografie
· Röntgenstrahllithografie
· Weitere Verfahren

Der Fotolack
· Lacktechnik
· Chemische Zusammensetzung

Entwickeln und Kontrolle
· Entwickeln
· Lackkontrolle
· Lackentfernen

Maskentechnik
· Maskentechnik
· Schritte bei der Maskenherstellung
· Maskentypen
· Belichtung in der nächsten Generation

8. Trockenätzen

Übersicht
· Allgemein
· Trockenätzverfahren

Trockenätzverfahren
· Ionenstrahlätzen
· Plasmaätzen
· Reaktives Ionenätzen
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