Halbleitertechnologie von A bis Z

Alles über Halbleiter und die Waferfertigung

Heißwand-Annealer

Der Heißwand-Annealer ist eine neuere Variante des Anneal-Ofens. Er besteht aus einem heißen Bereich und einem kälteren Bereich, wobei die Wände jeweils dieselbe Temperatur haben wie die Wafer. Wird der Wafer aus einem Bereich in den anderen gefahren, so wird er blitzschnell aufgeheizt bzw. abgekühlt (RTP, Rapid Thermal Processing). Zusätzlich sind die Lampenringe im heißen Bereich wie beim Multizonen-Annealer separat steuerbar. Es lassen sich sehr geringe Temperaturvariationen von maximal 0,5 °C auf dem Wafer erreichen.
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