Kontaminierung
Unter einer Kontaminierung versteht man eine schädliche Verunreinigung des Wafers.
Grundsätzlich können solche Verunreinigungen von jedem Gas, jeder Flüssigkeit und jedem Festkörper verursacht werden, die mit dem Wafer in direktem oder auch nur indirektem Kontakt standen. Deshalb werden hohe Ansprüche an die Reinheit dieser Stoffe und an den Umgang mit diesen gestellt.
Eine typische Kontaminierung stellt die Anlagerung von Partikeln aus der Luft auf der Waferoberfläche dar. So kann bereits ein einzelnes Staubkorn, das sich während eines der vielen Prozessschritte auf dem Wafer anlagert die Funktion der gesamten Schaltung zerstören. Aus diesem Grund wird in speziellen staubfreien Reinräumen gearbeitet.
Grundsätzlich können solche Verunreinigungen von jedem Gas, jeder Flüssigkeit und jedem Festkörper verursacht werden, die mit dem Wafer in direktem oder auch nur indirektem Kontakt standen. Deshalb werden hohe Ansprüche an die Reinheit dieser Stoffe und an den Umgang mit diesen gestellt.
Eine typische Kontaminierung stellt die Anlagerung von Partikeln aus der Luft auf der Waferoberfläche dar. So kann bereits ein einzelnes Staubkorn, das sich während eines der vielen Prozessschritte auf dem Wafer anlagert die Funktion der gesamten Schaltung zerstören. Aus diesem Grund wird in speziellen staubfreien Reinräumen gearbeitet.