Halbleitertechnologie von A bis Z

Alles über Halbleiter und die Waferfertigung

Plasma

Als Plasma bezeichnet man den vierten Aggregatzustand (nach fest, flüssig, gasförmig), bei dem die Teilchen des im Plasmazustand befindlichen Gases ionisiert sind.

Mit steigender Energiezufuhr (z.B. in Form von Wärme) bewegen sich die Teilchen immer schneller und stoßen zusammen. Dabei lösen sich Elektronen von den Atomrümpfen. Im Plasma liegen somit freie Elektronen und verschiedene Teilchen vor, die ungeladen oder auch ein- oder mehrfach positiv geladenen Ionen sein können.

In der Halbleiterindustrie werden Plasmen meist mittels Hochfrequenz- (13,56 MHz) oder Mikrowellenentladung (2,45 GHz) erzeugt. Bei letzterer werden größere Feldstärken und somit dichtere Plasmen erzeugt.

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