Halbleitertechnologie von A bis Z

Alles über Halbleiter und die Waferfertigung

Zonenreinigung

Die Zonenreinigung dient zur Erhöhung der Reinheit der Siliciumkristalle, wobei man sich die hohe Löslichkeit von Verunreinigungen in der Siliciumschmelze zu Nutze macht. Polykristalline Siliciumstäbe werden dabei mittels hochfrequentem Wechselstrom der durch eine Spule fließt aufgeschmolzen, wo sich die Fremdstoffe besser lösen als im festen Silicium. Führt man die Spule entlang des Stabes, entzieht man dem Silicium so die Verunreinigungen, die mit dem aufgeschmolzenen Silicium bis ans Ende des Stabes wandern.

Damit sich keine weiteren Verunreinigungen im Silicium anlagern, wird der Prozess, der auch mehrmals wiederholt werden kann, in einer Schutzgasatmosphäre durchgeführt.

Please enable / Bitte aktiviere JavaScript!