Simultandiffusion
Die Doppel- oder Simultandiffusion stellt ein Verfahren dar, mit dem zwei verschiedene Dotierungen unterschiedlicher Konzentration gleichzeitig in die zu dotierende Schicht eingebracht werden können. Die Simultandiffusion wird meist als 2-Schritt-Diffusion durchgeführt. Dazu leitet man zwei verschiedene Dotiergase in den Diffusionsofen ein. Auf der Waferoberfläche schlägt sich dann eine Mischschicht nieder, die beide Dotierungen enthält. Diese diffundieren unterschiedlich schnell in den Wafer ein, weswegen ein charakteristisches Doppelprofil entsteht.