Spin On Glass
Spin On Glass (SOG) wird unter anderem zur Planarisierung und zur Dotierung von Wafern eingesetzt.
Beim Dotieren wird dazu mit Bor oder Phosphor versetztes Siliciumdioxid (Borphosphor-/Phosphorsilicatglas) auf den Wafer aufgespritzt und anschließend abgeschleudert, nur eine hauchdünne Schicht dotiertes Siliciumdioxid bleibt zurück. In einem Hochtemperaturschritt im Ofen wandern die Dotierstoffe dann in den Siliciumwafer.
Zur Planarisierung können die Gläser wie oben beschrieben auf dem Wafer aufgebracht und anschließend ausgeheizt werden, so entsteht eine stabile planarisierte Schicht, die jedoch nur lokale Stellen einebnet, und nicht den gesamten Wafer.