1. Anwendung von Oxidschichten
Oxid findet in der Halbleiterfertigung Anwendung in den verschiedensten Gebieten:
- zur Isolation (z.B. zwischen Metallisierungsschichten)
- als Streuschicht (z.B. Ionenimplantation)
- als Anpassungsschicht (z.B. LOCOS Technik)
- zur Planarisierung (z.B. um Kanten zu entschärfen)
- als Maskierschicht (z.B. Diffusion)
- als Justiermarken (Justierpunkte in der Fototechnik)
- als Schutzschicht (vor mechanischer Beschädigung)