DUV vs. EUV

DUV (Deep Ultraviolet) und EUV (Extreme Ultraviolet) sind keine grundverschiedenen Belichtungsverfahren, sondern zwei Wellenlängen-Regime derselben Grundidee: der reduzierenden Projektionsbelichtung, wie sie im Kapitel zu den Belichtungsverfahren beschrieben ist. Der Sprung von 193 nm (DUV) auf 13,5 nm (EUV) klingt nach einem kleinen Zahlenunterschied, zieht aber technisch fast alles neu auf – von der Optik über die Maske bis zur Betriebsumgebung der gesamten Anlage.

DUV-Anlagen arbeiten meist mit ArF-Excimerlasern bei 193 nm, häufig als Immersionslithografie: Ein dünner Wasserfilm zwischen der letzten Linse und dem Wafer erhöht den effektiven Brechungsindex und damit die Auflösung. Die Optik ist transmissiv – Licht durchläuft ein System aus Quarzglaslinsen, die Maske ist transparent wie ein Diapositiv.

EUV-Strahlung bei 13,5 nm wird dagegen von praktisch jedem Material absorbiert, auch von Luft und Glas. Deshalb muss die gesamte Anlage im Hochvakuum arbeiten, und Linsen sind unbrauchbar – abgebildet wird stattdessen über ein System aus Molybdän-Silicium-Multilagenspiegeln, die durch destruktive/konstruktive Interferenz einen Bruchteil der Strahlung reflektieren. Auch die Maske selbst ist kein Transparent, sondern ein strukturierter Spiegel.