Wie aus acht Ingenieuren das Silicon Valley entstand

12.10.2026

1957 verließen acht junge Wissenschaftler das Labor des Transistor-Miterfinders William Shockley. Ihre Gründung Fairchild Semiconductor brachte die Planartechnik und integrierte Schaltkreise voran – und wurde zum Ausgangspunkt zahlreicher Chipunternehmen, darunter Intel und AMD.

Wie aus acht Ingenieuren das Silicon Valley entstand

Bild: ChatGPT

Am 19. September 1957 unterzeichneten acht Wissenschaftler und Ingenieure in Kalifornien die Dokumente für eine gemeinsame Unternehmensgründung. Sie hatten beschlossen, ihren Arbeitgeber William Shockley zu verlassen – einen der Männer, denen die Welt den Transistor verdankte und der erst wenige Monate zuvor den Nobelpreis erhalten hatte. Shockley betrachtete diesen Schritt als Verrat. Die Geschichte kennt die acht bis heute als die Traitorous Eight, die „verräterischen Acht“.

Ihre neue Firma, Fairchild Semiconductor, sollte zunächst nur bessere Siliciumtransistoren bauen. Wenige Jahre später hatte sie entscheidend dazu beigetragen, dass aus einzelnen Transistoren zuverlässige integrierte Schaltungen wurden. Aus Fairchild gingen zahlreiche weitere Unternehmen hervor, darunter Intel. Doch warum entwickelte sich gerade aus einem Streit in einem kleinen Forschungslabor die industrielle Keimzelle des Silicon Valley? Und welche Rolle spielten dabei eine Oxidschicht, ein neuer Fertigungsprozess und die ungewöhnliche Bereitschaft, erfolgreiche Firmen wieder zu verlassen?

Vor der Chipindustrie: Obstgärten, Stanford und die Funktechnik

Die Region südlich von San Francisco war in der ersten Hälfte des 20. Jahrhunderts noch von Obstplantagen geprägt. Gleichzeitig existierte hier aber bereits eine technisch orientierte Wirtschaft. Firmen für Funkgeräte, elektronische Messinstrumente, Mikrowellentechnik und magnetische Aufzeichnung arbeiteten in der Umgebung von Palo Alto und San José. Hewlett-Packard wurde 1939 in Palo Alto gegründet; auch Unternehmen wie Varian Associates und Ampex trugen dazu bei, dass sich Fachkräfte und Zulieferer in der Region ansiedelten.

Die Stanford University spielte dabei eine wichtige Rolle. Der Ingenieur und Hochschullehrer Frederick Terman förderte die Zusammenarbeit zwischen Universität und Unternehmen und ermutigte Absolventen, eigene Firmen aufzubauen. Aufträge für Nachrichtentechnik und später militärische Elektronik schufen einen Markt für anspruchsvolle Bauteile. Das Gebiet besaß also lange vor Fairchild sowohl technische Erfahrung als auch eine unternehmerische Infrastruktur.

Was noch fehlte, war eine breite Industrie für Silicium-Halbleiter. Die frühen Transistorunternehmen konzentrierten sich unter anderem an der amerikanischen Ostküste. Der Halbleiterforscher William Shockley brachte diese neue Technologie schließlich nach Nordkalifornien – ohne die Folgen seiner Entscheidung voraussehen zu können.

1947 bis 1956: Shockley bringt den Transistor nach Kalifornien

Bei den Bell Laboratories hatten John Bardeen und Walter Brattain 1947 den ersten funktionsfähigen Punktkontakttransistor demonstriert. William Shockley, der ihre Forschungsgruppe leitete, entwickelte anschließend die Grundlagen des Sperrschichttransistors. Für die Entdeckung des Transistoreffekts erhielten die drei 1956 gemeinsam den Nobelpreis für Physik. Der Transistor versprach, die empfindlichen und energiehungrigen Elektronenröhren in zahlreichen Anwendungen zu ersetzen.

Shockley verließ die Bell Laboratories und einigte sich 1955 mit dem Instrumentenhersteller Arnold Beckman auf den Aufbau eines neuen Halbleiterlabors. Die Einrichtung nahm 1956 in Mountain View ihre Arbeit auf. Anders als viele frühe Transistorproduzenten wollte Shockley von Anfang an mit Silicium arbeiten. Germanium war damals für zahlreiche Bauelemente noch verbreitet, Silicium versprach aber unter anderem geringere Leckströme bei höheren Temperaturen und ermöglichte eine besonders nützliche isolierende Oxidschicht auf der Oberfläche.

Shockley suchte gezielt junge Spitzenkräfte aus verschiedenen Wissenschaftsdisziplinen. Er lockte sie mit der Möglichkeit, an einer der wichtigsten Technologien der Zukunft zu arbeiten. Viele verfügten über hervorragende theoretische Kenntnisse, mussten jedoch gemeinsam erst lernen, Kristalle in hoher Qualität herzustellen, Dotierstoffe kontrolliert einzubringen und aus Laborversuchen reproduzierbare Prozesse zu entwickeln. Das spätere Silicon Valley begann nicht mit einer großen Fabrik, sondern mit einer kleinen Gruppe, die Fertigungswissen aufbaute.

Die acht Mitarbeiter, die später Firmengründer wurden

Die acht späteren Fairchild-Gründer waren Julius Blank, Victor Grinich, Jean Hoerni, Eugene Kleiner, Jay Last, Gordon Moore, Robert Noyce und Sheldon Roberts. Sie bildeten keine homogene Gruppe von Schaltungsentwicklern. Gerade die Mischung ihrer Kenntnisse war wichtig: Halbleiterphysik, Chemie, Materialbearbeitung, Messtechnik, elektrische Schaltungen und praktische Fertigungsorganisation mussten zusammenwirken.

Moore beschäftigte sich intensiv mit material- und prozesstechnischen Fragen; Hoerni brachte die physikalischen Grundlagen für neue Transistorstrukturen ein. Noyce verband technische Vorstellungskraft mit der Fähigkeit, Menschen und Projekte zu koordinieren. Last arbeitete später wesentlich an Maskentechnik und integrierten Schaltungen, Roberts an der Kristallherstellung. Blank, Grinich und Kleiner trugen unter anderem zum Aufbau von Anlagen, Mess- und Fertigungstechnik bei. Keiner dieser Bereiche hätte allein genügt, um aus einem Siliciumkristall ein verkaufbares Produkt zu machen.

In späteren Erzählungen stehen oft nur Noyce und Moore im Mittelpunkt, weil sie Intel gründeten. Die anfängliche Stärke von Fairchild lag jedoch gerade darin, dass die acht ein nahezu vollständiges Entwicklungsteam für eine junge Halbleiterfabrik bildeten.

Warum ausgerechnet der Nobelpreisträger seine besten Leute verlor

Shockley war ein außergewöhnlicher Forscher, aber nach zahlreichen Berichten ein schwieriger Vorgesetzter. Er misstraute Mitarbeitern, kontrollierte ihre Arbeit stark und konzentrierte sich zunehmend auf ein kompliziertes vierlagiges Halbleiterbauelement, eine p-n-p-n-Struktur für Schaltanwendungen. Teile seines Teams sahen dagegen in der baldigen Produktion hochwertiger Siliciumtransistoren die größere wirtschaftliche Chance.

Der Konflikt war deshalb mehr als eine Frage des Führungsstils. Ein junges Unternehmen verfügte nur über begrenzte Mittel und musste entscheiden, ob es einen unsicheren technologischen Sonderweg verfolgen oder einen unmittelbar nachgefragten Markt bedienen sollte. Für die Ingenieure bedeutete Shockleys Schwerpunktsetzung, dass sie ihr mühsam aufgebautes Prozesswissen möglicherweise nicht in eine wettbewerbsfähige Fertigung überführen konnten.

Sie wandten sich an Arnold Beckman, den Geldgeber des Labors, und baten darum, Shockley durch eine andere Führungskraft zu ersetzen. Beckman wollte das Projekt jedoch nicht gegen den Gründer führen. Die Mitarbeiter standen damit vor einer Wahl, die in der damaligen amerikanischen Unternehmenswelt keineswegs selbstverständlich war: bleiben oder gemeinsam kündigen und anderswo selbst eine Firma aufbauen.

1957: Arthur Rock findet das Kapital für Fairchild

Im Sommer 1957 suchten die acht zunächst nach einer gemeinsamen neuen Aufgabe. Der Finanzfachmann Arthur Rock half, Investoren zu finden. Schließlich erklärte sich die Fairchild Camera and Instrument Corporation bereit, das Vorhaben zu finanzieren. Hinter dem Unternehmen stand der Industrielle Sherman Fairchild. Nach Angaben des Computer History Museum wurden etwa 1,38 Millionen US-Dollar für die neue Halbleiterfirma bereitgestellt.

Der Name Fairchild Semiconductor war daher kein Zufall und auch nicht der Name eines der acht Ingenieure. Das Unternehmen begann als durch einen etablierten Konzern finanziertes Vorhaben, mit der Möglichkeit, später vollständig in dessen Besitz überzugehen. Die Gründer erhielten Zugang zu Kapital, ohne dass sie bereits eine große eigene Fabrik oder umfangreiche Produktumsätze vorweisen konnten.

Am 19. September 1957 unterzeichneten sie Dokumente für die Gründung; Anfang Oktober nahm Fairchild Semiconductor in Palo Alto die Arbeit auf. Der Bruch mit Shockley brachte ihnen den überlieferten Beinamen Traitorous Eight ein. Aus späterer Sicht wirkt der Schritt wie ein Musterbeispiel der Start-up-Kultur. Damals war es für hochqualifizierte Angestellte wesentlich ungewöhnlicher, kollektiv das Risiko einer solchen Gründung einzugehen.

1958: Ein Auftrag für 100 Transistoren entscheidet über den Anfang

Eine neue Halbleiterfirma brauchte schnell ein Produkt, das Kunden tatsächlich kaufen wollten. Anfang 1958 erhielt Fairchild nach der Dokumentation des Computer History Museum von einer IBM-Einheit für militärische Systeme einen Auftrag über 100 Siliciumtransistoren zu jeweils 150 US-Dollar. Gesucht wurde ein Bauteil, das unter anspruchsvollen Betriebsbedingungen zuverlässig arbeiten konnte, unter anderem für Elektronik in einem militärischen Flugzeugprogramm.

Für das junge Unternehmen war das eine enorme Chance und ein Risiko: Eine kleine Serie musste in kurzer Zeit entwickelt und mit gleichmäßigen elektrischen Eigenschaften hergestellt werden. Das Team baute eigene Anlagen zur Kristallherstellung, Diffusion, Maskierung und Prüfung auf. Fotolithografische Masken wurden mit zunächst einfachen optischen Mitteln hergestellt. Im August 1958 präsentierte Fairchild den n-p-n-Transistor 2N697, einen frühen kommerziellen Silicium-Mesa-Transistor.

Der zeitliche Kontext half. Der Start des sowjetischen Satelliten Sputnik im Oktober 1957 hatte in den USA hohe Investitionen in Raumfahrt und militärische Elektronik ausgelöst. Für Bordcomputer, Steuerungen und Raketen waren kleine, zuverlässige Halbleiter besonders interessant. Staatlich finanzierte Großprojekte und industrielle Kunden sorgten damit für frühe Nachfrage, lange bevor Heimcomputer oder Smartphones vorstellbar waren.

Das Problem der Mesa-Transistoren: Eine empfindliche Oberfläche

Die ersten erfolgreichen Fairchild-Transistoren verwendeten eine sogenannte Mesa-Struktur. Dabei bildeten sich nach Diffusion und Ätzen kleine erhöhte Halbleiterbereiche auf dem Wafer, deren Form an ein Plateau erinnerte. Basis- und Emitterzonen wurden durch nacheinander eingebrachte Dotierstoffe erzeugt. Die seitlich austretenden pn-Übergänge lagen jedoch teilweise an einer empfindlichen, nicht ausreichend geschützten Oberfläche.

Das machte die Bauelemente anfällig für Verunreinigungen, Feuchtigkeit und Partikel. Winzige Fremdkörper konnten elektrische Leckpfade oder sogar Kurzschlüsse zwischen Kontaktbereichen verursachen. Besonders kritisch war, dass Fehler auch erst nach dem Verpacken oder während des Betriebs auftraten. Eine gute elektrische Prüfung unmittelbar nach der Fertigung garantierte dann noch keine Langzeitzuverlässigkeit.

Eine Lösung bestand darin, die problematischen Übergänge nicht mehr seitlich freizulegen, sondern unter einer geeigneten Schutzschicht zu halten. Dafür eignete sich eine Eigenschaft von Silicium, die zunächst nur als Nebenwirkung der Verarbeitung erschien: Es kann eine relativ stabile Schicht aus Siliciumdioxid bilden. Der Durchbruch kam nicht durch einen völlig neuen Transistortyp, sondern durch einen anderen Umgang mit dieser Oberfläche.

1959: Jean Hoerni entwickelt die Planartechnik

Jean Hoerni hatte Ende 1957 bereits eine Idee notiert, die sich später als richtungsweisend erwies. Statt die Oxidschicht nach Prozessschritten großflächig zu entfernen und die empfindlichen pn-Übergänge freizulegen, sollte sie auf dem Silicium bleiben. Öffnungen in der Schicht würden nur dort erzeugt, wo Dotierstoffe eindiffundieren oder elektrische Kontakte hergestellt werden mussten. Die Übergänge konnten unter dem Oxid geschützt an die Oberfläche auslaufen.

Die Planartechnik verband somit mehrere Fertigungsmethoden zu einem besonders leistungsfähigen Gesamtprozess. Zuerst wurde auf einer Siliciumoberfläche thermisch Siliciumdioxid erzeugt. Durch Fotolithografie und selektives Ätzen entstanden definierte Fenster. In diesen Bereichen ließen sich Dotierstoffe einbringen, sodass pn-Übergänge gebildet wurden. Nach weiteren Oxidations- und Strukturierungsschritten konnten Metallkontakte aufgebracht werden. Die glatte, passivierte Oberfläche ließ sich wiederholt lithografisch bearbeiten.

Das verringerte die Empfindlichkeit gegenüber Oberflächenverunreinigungen und verbesserte die Zuverlässigkeit. Noch entscheidender war die industrielle Wirkung: Mehrere präzise aufeinander abgestimmte Bearbeitungsschritte konnten auf einem ganzen Wafer wiederholt werden. Die Qualität eines Bauelements beruhte dadurch weniger auf individueller Nacharbeit, sondern stärker auf kontrollierbaren Prozessen. Hoernis Planartechnik wurde zur grundlegenden Voraussetzung für die spätere integrierte Siliciumschaltung.

Von Hoernis Oxid zur integrierten Schaltung von Robert Noyce

1958 hatte Jack Kilby bei Texas Instruments bereits einen funktionsfähigen integrierten Schaltkreis mit mehreren Bauelementen aus Halbleitermaterial demonstriert. Sein Aufbau zeigte, dass sich die Funktionen einer Schaltung grundsätzlich gemeinsam auf einem Halbleiterstück realisieren ließen. Die elektrische Verbindung der Elemente war jedoch noch nicht in derselben Weise integriert, wie sie für eine wirtschaftliche Waferfertigung benötigt wurde.

Robert Noyce erkannte 1959, dass sich Hoernis Oxidschicht nicht nur als Schutz, sondern auch als Isolator für metallische Verbindungsleitungen verwenden ließ. Transistoren, Widerstände und weitere Strukturen konnten auf demselben Silicium-Die gefertigt und anschließend durch gezielt abgeschiedene und strukturierte Aluminiumleitungen miteinander verbunden werden. Die Leitungen lagen auf dem isolierenden Oxid und kontaktierten das Silicium nur an dafür geöffneten Stellen.

Damit wurde aus dem Nebeneinander einzelner Bauelemente eine monolithische Schaltung: Die Komponenten und ihre Verdrahtung ließen sich weitgehend mit denselben wiederholbaren Waferprozessen herstellen. Noyce meldete sein entsprechendes Patent im Juli 1959 an. Die Geschichte des integrierten Schaltkreises hat deshalb mehrere wesentliche Beiträge: Kilbys funktionierendes Prinzip, Hoernis industriell nutzbare Planartechnik und Noyces metallische Verbindung innerhalb eines Silicium-Dies.

1960 und 1961: Jay Last bringt das Konzept zum Funktionieren

Eine patentierte Idee ist noch kein fertiges Produkt. Robert Noyce beauftragte 1959 seinen Mitgründer Jay Last damit, die Herstellung einer integrierten Schaltung auf Grundlage des Planarprozesses praktisch zu entwickeln. Last stellte ein Team zusammen, das sich unter anderem mit der Isolation der einzelnen Transistoren, der Maskentechnik, dem Layout und der Prüfung befassen musste.

Eine zentrale Schwierigkeit war die elektrische Trennung benachbarter Bauelemente auf demselben Siliciumstück. Ohne geeignete Isolation konnten Ströme über das gemeinsame Substrat fließen und die Schaltung unbrauchbar machen. Eine praktisch bewährte Lösung bestand darin, isolierende pn-Übergänge im Sperrbetrieb zu nutzen. In Verbindung mit den darüberliegenden Metallleitungen wurde dadurch eine vollständige Logikschaltung auf einem einzigen Die möglich.

Im Mai 1960 entstanden bei Fairchild funktionsfähige monolithische Schaltungen; 1961 wurde die Micrologic-Familie kommerziell eingeführt. Ein frühes Logikelement enthielt vier Transistoren und fünf Widerstände – aus heutiger Sicht verschwindend wenig, damals aber ein entscheidender Schritt. Jede zusätzliche Funktion musste nun nicht mehr einzeln verdrahtet werden. Je mehr Bauelemente auf einem Die untergebracht werden konnten, desto stärker schrumpften Platzbedarf und Anzahl der externen Verbindungen.

Wie Raumfahrt und Fertigungsprozesse einander vorantrieben

Die noch jungen integrierten Schaltungen waren anfangs teuer. Ihr Nutzen lag dort, wo geringes Gewicht, niedriger Platzbedarf und Zuverlässigkeit besonders wichtig waren. Für die Elektronik der amerikanischen Raumfahrt und militärischer Systeme konnten diese Vorteile wesentlich schwerer wiegen als der Preis einzelner Bauteile. Fairchild lieferte beispielsweise integrierte Schaltungen für die Entwicklung des Apollo Guidance Computer.

Die hohen Anforderungen wirkten auf die Fertigung zurück. Ein fehlerhafter Die kostete nicht nur Silicium, sondern auch sämtliche bereits durchgeführten Prozessschritte. Deswegen gewannen die Kontrolle von Oxiddicken, Dotierprofilen und Kontaktwiderständen ebenso an Bedeutung wie reine Arbeitsumgebungen, elektrische Waferprüfung und reproduzierbares Packaging. Mess- und Testtechnik wurden zu eigenständigen industriellen Aufgaben.

Die frühen Fairchild-Ingenieure und ihre später hinzugekommenen Kollegen mussten viele Anlagen zunächst selbst bauen oder verändern. Bald entstanden in der Region spezialisierte Anbieter von Belichtungstechnik, Testsystemen, Materialien und Fertigungsausrüstung. So bewirkte die steigende Nachfrage nach Chips zugleich die Gründung weiterer Unternehmen, die wiederum neue Chipfabriken erst ermöglichten. Das regionale Netzwerk gewann an Bedeutung, ohne dass jede Firma sämtliche technischen Probleme allein lösen musste.

1965: Gordon Moore macht aus einem Trend eine Erwartung

In einem Artikel für die Fachzeitschrift Electronics beschrieb Gordon Moore 1965, wie die wirtschaftlich sinnvolle Zahl an Bauelementen pro integrierter Schaltung in den zurückliegenden Jahren stark gestiegen war. Er extrapolierte zunächst ungefähr eine jährliche Verdopplung für die folgenden zehn Jahre. 1975 korrigierte er die längerfristige Erwartung auf etwa eine Verdopplung alle zwei Jahre. Unter dem Namen Moore’s Law wurde aus dieser Beobachtung ein Orientierungspunkt für die gesamte Branche.

Dahinter stand kein Naturgesetz. Kleinere Strukturen entstehen nicht automatisch mit dem Ablauf eines Kalenderjahres. Fortschritte bei Fotolithografie, Materialien, Dotierung, Isolation, Maskentechnik und Schaltungsentwurf waren notwendig, um die Zahl funktionsfähiger Transistoren zu erhöhen. Ebenso entscheidend war die Wirtschaftlichkeit: Wenn ein Wafer sehr viele Dies lieferte, diese aber wegen Defekten zu großen Teilen ausfielen, war die höhere Integrationsdichte wenig wert.

Fairchild hatte mit dem Planarprozess und integrierten Schaltungen gezeigt, wie sich solche technischen Fortschritte in industriell nutzbare Produkte übersetzen ließen. Moores Prognose machte aus diesem Erfolg eine längerfristige Entwicklungslinie. Die Halbleiterindustrie begann, immer neue Prozessgenerationen nicht nur anzustreben, sondern systematisch zu planen.

Die 1960er-Jahre: Fairchild wird mehr als eine Transistorfirma

Fairchild wuchs rasch über die ursprünglichen Projekte der acht Gründer hinaus. Dort arbeiteten später Fachleute, die wichtige Beiträge zu MOS-Prozessen, Silicium-Gate-Technologie, analogen integrierten Schaltungen und der automatisierten Chipentwicklung leisteten. Frank Wanlass war an der frühen Entwicklung komplementärer MOS-Schaltungen beteiligt. Robert Widlar und Dave Talbert trugen zur Verbreitung praxisgerechter integrierter Operationsverstärker bei, darunter dem µA709 von 1965.

Das Unternehmen wurde damit zu einem Ort, an dem viele unterschiedliche Arten technischen Wissens zusammentrafen. MOS-Transistoren versprachen hohe Integrationsdichten, bipolare Schaltungen waren für zahlreiche schnelle Logikanwendungen attraktiv, und analoge ICs verbanden elektronische Systeme mit der physikalischen Außenwelt. Auf Dauer war kein Unternehmen allein auf einen Transistortyp oder eine Produktfamilie festgelegt.

Gleichzeitig entstanden Fachkenntnisse im Marketing und Vertrieb komplexer Technologien. Ingenieure mussten ihren Kunden erklären, warum eine neue Schaltung nicht nur funktionierte, sondern ein gesamtes elektronisches System vereinfachen konnte. Diese Verbindung aus Forschung, industrieller Umsetzung und einem Markt für neue Anwendungen wurde für die Region charakteristisch.

Warum aus Fairchild immer neue Firmen hervorgingen

So erfolgreich die Entwicklung verlief, so schwierig wurde das Verhältnis zur Muttergesellschaft Fairchild Camera and Instrument. Die wichtigsten Forschungs- und Fertigungsteams arbeiteten an der amerikanischen Westküste, während die Eigentümer und Entscheidungsträger in einem großen, älteren Konzern eingebunden waren. Wiederkehrende Spannungen entstanden um Investitionen, Organisation und die Frage, wie stark die technischen Mitarbeiter am Unternehmenserfolg teilhaben sollten.

Zugleich zeigte das Beispiel Fairchild, dass Fachleute mit einer guten Idee Investoren finden konnten, ohne eine bestehende Großfirma übernehmen zu müssen. Die Abwanderung eines erfahrenen Teams war damit nicht länger nur Verlust für seinen alten Arbeitgeber, sondern häufig die Geburtsstunde eines neuen Zulieferers oder Konkurrenten. Aus dem ursprünglichen Kreis und aus späteren Fairchild-Belegschaften entstanden über viele Jahre zahlreiche Firmen, die als Fairchildren bekannt wurden.

Dazu gehörten unterschiedliche Unternehmensgeschichten. Jean Hoerni gründete später unter anderem Intersil mit; andere Fairchild-Mitarbeiter halfen dabei, National Semiconductor in Kalifornien neu aufzubauen. Die 1969 gegründete Firma Advanced Micro Devices (AMD) entstand ebenfalls aus einer Gruppe ehemaliger Fairchild-Mitarbeiter um Jerry Sanders. Wichtig ist die Unterscheidung: Sanders gehörte nicht zu den ursprünglichen acht Gründern von 1957. Das Netzwerk hatte sich inzwischen längst um neue Generationen von Ingenieuren, Managern und Kapitalgebern erweitert.

1968: Noyce und Moore gründen Intel

Robert Noyce und Gordon Moore entschieden 1968, Fairchild zu verlassen. Nach der Darstellung von Intel störte sie unter anderem, dass die Muttergesellschaft aus ihrer Sicht nicht genügend Mittel in weitere Forschung und neue Technologien investierte. Am 18. Juli 1968 gründeten sie ein neues Unternehmen, das bald den Namen Intel erhielt – eine Kurzform von Integrated Electronics. Andrew Grove wechselte ebenfalls von Fairchild zu Intel und wurde zu einer prägenden Führungspersönlichkeit.

Intel ist heute vor allem für Mikroprozessoren bekannt, begann jedoch mit einer anderen Priorität: Halbleiterspeicher. Das Unternehmen wollte die bis dahin verbreiteten magnetischen Kernspeicher durch integrierte Speicherlösungen ablösen. 1970 erschien mit dem Intel 1103 ein erfolgreicher kommerzieller DRAM; 1971 stellte Intel mit dem 4004 einen frühen kommerziellen Mikroprozessor auf einem Chip vor.

Die Verbindung zu Fairchild bestand deshalb nicht bloß aus zwei bekannten Namen. Intel übernahm Menschen mit Erfahrung in Siliciumprozessen, Schaltungsentwurf und Fertigung. Der technische Fortschritt konnte auf bereits entwickelten Verfahren, auf einem wachsenden Netz von Zulieferern und auf der Erfahrung aus den ersten Jahren der integrierten Schaltung aufbauen. Das unternehmerische Wissen zog gewissermaßen zusammen mit den Ingenieuren weiter.

1971: Die Region bekommt den Namen Silicon Valley

Der Begriff Silicon Valley entstand nicht schon mit der Gründung von Fairchild. Anfang der 1970er-Jahre war die Region längst von Halbleiterunternehmen, Zulieferern und Elektronikfirmen geprägt. Der Journalist Don Hoefler machte die Bezeichnung mit einer Artikelserie namens „Silicon Valley USA“ in der Branchenzeitung Electronic News im Januar 1971 weithin bekannt. „Silicon“ bezog sich auf das Material der Wafer, nicht auf Software oder Computer im Allgemeinen.

Der Name setzte sich gerade deshalb durch, weil er bereits eine sichtbare Veränderung beschrieb. Zwischen Palo Alto, Mountain View, Santa Clara und Sunnyvale war ein regionales Geflecht entstanden, in dem Beschäftigte ihr Wissen häufig zwischen Firmen weitergaben. Neue Unternehmen konnten auf spezialisierte Dienstleister, erfahrene Ingenieure, Forschungseinrichtungen und Investoren zurückgreifen. Daraus ergab sich ein Vorteil, den sich durch die Errichtung einer einzelnen großen Fabrik kaum nachahmen ließ.

Die acht Fairchild-Gründer schufen Silicon Valley nicht allein. Ohne Stanford, die schon vorhandene Funk- und Elektronikindustrie, öffentliche Forschungsaufträge, Kapitalgeber und die Arbeit Tausender Beschäftigter wäre die Entwicklung anders verlaufen. Ihr ungewöhnlicher Beitrag bestand darin, dass sie mit Fairchild eine besonders erfolgreiche Verbindung von Halbleiterinnovation, eigener Fertigung und wiederholter Unternehmensgründung demonstrierten.

Was die „verräterischen Acht“ tatsächlich veränderten

Die Geschichte hat eine fast ironische Pointe. William Shockley wollte mit einem hochqualifizierten Team eine neue Technologieindustrie in Kalifornien aufbauen. Als seine besten Mitarbeiter ihn verließen, verlor er jedoch einen Großteil der Menschen, die seine Vision industriell hätten umsetzen können. Ausgerechnet ihr Fortgang beschleunigte die Entwicklung, die Shockley ursprünglich angestoßen hatte.

Der nachhaltigste Erfolg von Fairchild war nicht ein einzelner berühmter Chip. Jean Hoernis Planartechnik machte Halbleiter zuverlässiger und für die Waferfertigung besser beherrschbar. Robert Noyces Konzept der metallisch verbundenen monolithischen Schaltung und die Fertigungsarbeit um Jay Last machten daraus den integrierten Schaltkreis. Gordon Moores Beobachtung beschrieb anschließend die Dynamik, mit der sich diese Technik weiterentwickelte.

Ebenso wichtig war das unternehmerische Muster: Wer Erfahrungen gesammelt hatte, konnte eine Firma verlassen, eigene Ideen verfolgen, Geldgeber gewinnen und Fachkräfte für das nächste Projekt begeistern. Die neu entstehenden Firmen konkurrierten, tauschten aber über Arbeitskräfte, Zulieferer und Technologien indirekt weiterhin Wissen aus. Die „verräterischen Acht“ gründeten also nicht die gesamte Hightech-Region aus dem Nichts. Sie halfen, aus einer vorhandenen Forschungs- und Elektroniklandschaft ein sich selbst verstärkendes Zentrum der Halbleiterindustrie zu machen.