ASMLAdvanced Semiconductor Materials LithographyASML ist ein führender Anbieter von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung. hat seinen Umgang mit Bestellungen für EUVextreme ultravioletExtrem ultraviolette Strahlung; die EUV-Lithografie nutzt Licht mit ungefähr 13,5 nm Wellenlänge.-Lithografiesysteme geändert und nimmt Aufträge nicht mehr einfach an, sondern weist verfügbare Kapazitäten zu. Der Hintergrund ist eine wachsende Verknappung bei den extrem ultravioletten Anlagen, die in der modernen Halbleiterfertigung als Schlüsselwerkzeuge gelten.
Nach den jüngsten Aussagen des Unternehmens reichen die Bestellwünsche der Kunden bereits bis in die Jahre 2029 und 2030. ASMLAdvanced Semiconductor Materials LithographyASML ist ein führender Anbieter von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung. will solche Aufträge jedoch erst berücksichtigen, wenn die gesamte Nachfrage gegen die eigene Produktions- und Lieferkapazität abgewogen wurde. Damit verschiebt sich das Geschäft von einer klassischen Order-Annahme hin zu einer strikteren Allokation.
Parallel dazu hat ASMLAdvanced Semiconductor Materials LithographyASML ist ein führender Anbieter von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung. erstmals bestätigt, dass Kunden bereit sind, für diese Maschinen mehr zu bezahlen. Gemeint sind die wichtigsten EUVextreme ultravioletExtrem ultraviolette Strahlung; die EUV-Lithografie nutzt Licht mit ungefähr 13,5 nm Wellenlänge.-Systeme des Hauses, deren Verfügbarkeit für fortschrittliche Fertigungsprozesse entscheidend ist. Mit der bestätigten Preissteigerung reagiert der Konzern auf die angespannte Versorgungslage bei diesen Anlagen.
Für den Markt bedeutet das vor allem, dass sich der Engpass bei EUVextreme ultravioletExtrem ultraviolette Strahlung; die EUV-Lithografie nutzt Licht mit ungefähr 13,5 nm Wellenlänge. nicht entspannt, sondern weiter verschärft. Die Kombination aus langem Vorlauf für neue Bestellungen und steigenden Preisen unterstreicht, wie knapp die verfügbaren Systeme derzeit sind.